[연합]

[헤럴드경제] 삼성전자가 '초격차'를 벌리기 위해 올해 미국과 한국에서 역대급 투자계획을 공개할 것이라는 관측이 나온다.

최근 미국 백악관회의 이후 급물살을 타고 있는 미국 투자계획이 이르면 다음달 발표된다. 이재용 부회장의 구속으로 늦어졌던 경기도 평택캠퍼스 P3 라인에 대한 신규 투자계획도 하반기 윤곽을 드러낼 전망이다.

두 공장에 대한 투자 규모만 최소 50조원, 최대 70조원에 달할 것이라는 관측이 나온다.

18일 재계에 따르면, 삼성전자는 조만간 미국에 170억달러(20조원)에 달하는 제2 파운드리(반도체 위탁생산) 공장 건설계획을 확정, 발표한다.

삼성전자는 그간 미국 텍사스주 오스틴공장 인근과 애리조나, 뉴욕 등을 후보지로 놓고 추가 공장 건설을 검토해 왔다. 이 가운데 1공장이 있는 오스틴 지역이 유력한 상황이다.

미국 현지 언론들은 삼성전자가 이르면 올해 상반기 안에, 늦어도 여름까지는 미국 투자계획을 확정할 것으로 예상했다.

재계에서는 다음달 하순 문재인 대통령과 조 바이든 미국 대통령의 정상회담을 전후해 삼성전자의 투자계획이 공개될 수 있다는 관측도 나온다.

지난 12일 인텔과 TSMC 등 경쟁사들이 백악관회의 이후 미국내 반도체 투자계획을 잇달아 공개했다. 국내 유일 참석 기업인 삼성전자도 이에 화답해야 할 상황이다.

재계의 한 관계자는 “삼성이 후보지들과 논의 중인 인센티브가 원만히 해결된다면 미국 투자 결정이 이번 정상회담의 '선물보따리' 가운데 하나가 될 수 있다”고 봤다.

역대 최대 규모로 알려진 삼성전자의 평택캠퍼스 제3공장(P3)도 올 하반기에는 투자계획이 공식화될 전망이다. 지난해 하반기부터 기초공사에 들어갔다.

연내 P3 공장의 외관공사가 끝날 것이라는 관측도 있다. 이 경우 내년부터 장비 반입이 시작되고, 시험가동을 거치면 대략 2023년부터 양산이 시작될 것으로 보인다.

평택 P3 라인은 공장의 길이가 700m로 P2(400m)의 1.75배에 달하는 것으로 알려져 있다. 연면적도 70만㎡ 규모로 단일 반도체 라인 중 세계 최대다.

이에 따라 전체 투자 규모도 각각 30조원 가량이 투입된 P1, P2보다 훨씬 클 것으로 관측된다.

초미세공정을 위해 대당 1700억∼2000억원에 달하는 극자외선(EUV) 장비를 많이 쓰는 삼성전자의 라인 특성을 고려할 때 P3 전체 투자비가 40조∼50조원을 넘어설 것이라는 예상도 나온다.

삼성전자는 연초 이재용 부회장이 국정농단 파기환송심에서 집행유예를 선고받으면 P3 라인의 착공을 공식화하고 대대적인 투자계획을 공개할 예정이었다. 하지만 구속으로 결정이 늦어지고 있다.

그러나 최근 경쟁사인 TSMC와 인텔 등 글로벌 반도체 기업들이 앞다퉈 대규모 투자를 단행하고 있어 삼성전자도 투자를 늦추긴 어려울 것으로 업계는 보고 있다.

앞의 관계자는 “미·중 패권다툼 등으로 국내 반도체에 위기감이 그 어느 때보다 커졌다. 삼성이 총수 부재 속에서도 중대 의사결정을 내려야 할 때가 다가오고 있다”고 했다.